See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Jelena Asari

https://www.etis.ee/CV/Jelena_Asari/est
15.08.1944
737 4703
733 9975
jelena.asari@ut.ee

Teenistuskäik

Töökohad ja ametid
01.01.2007–30.04.2007   
Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, insener (0,50)
01.01.2006–31.12.2006   
Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, insener (0,80)
01.06.2005–31.12.2005   
Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, insener (0,75)
01.06.2005–31.12.2005   
Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond, Füüsikalise keemia instituut, insener (0,25)
01.02.2005–31.05.2005   
Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond, Füüsikalise keemia instituut, insener (0,50)
01.01.2005–31.05.2005   
Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, insener (0,50)
2004–2004   
Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond, Füüsikalise keemia instituut, insener (0,50)
01.01.2001–31.12.2006   
TÜ Füüsika Instituut (insener)
01.01.1991–31.12.2001   
Eesti TA Füüsika Instituut (insener)
01.01.1973–31.12.1991   
ENSV TA Füüsika Instituut(insener)
01.01.1967–31.12.1973   
ENSV TA füüsika ja Astronoomia Instituut (insener)
 
 
Haridustee
1962–1967   
Tartu Riiklik Ülikool, füüsika-elektroonika, magistrikraadile vastav kvalifikatsioon

Kvalifikatsioon

Teaduskraadid
Jelena Asari, magistrikraad, 1967, (juh) Alar Gerst, Aktiveeritud kaadmiumsulfiid monokristallide fotoelktriliste ja luminestsents omaduste uurimine, Tartu Riiklik Ülikool.
 
 
Teadustöö põhisuunad
ETIS KLASSIFIKAATOR: 4. Loodusteadused ja tehnika; 4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadus; CERCS KLASSIFIKAATOR: T150 Materjalitehnoloogia

Lõppenud projektid

Publikatsioonid

Klass
Aasta
Publikatsioon
 
1.1.
2013
Sammelselg, V.; Netšipailo, I.; Aidla, A.; Tarre, A.; Aarik, L.; Asari, J.; Ritslaid, P.; Aarik, J. (2013). Chemical resistance of thin film materials based on metal oxides grown by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 542, 219−224. DOI: 10.1016/j.tsf.2013.06.079.
5.2.
2010
Tarre, A.; Aidla, A.; Mändar, H.; Asari, J.; Uustare, T.; Rosental, A. (2010). Iodide/ozone system in aomic layer deposition of tin dioxide. Conference Program & Abstracts Booklet: Baltic ALD 2010 & GerALD 2; Hamburg, Germany; Sept. 16-17, 2010.
5.2.
2009
Netšipailo, I.; Aarik, J.; Aidla, A.; Asari, J.; Ritslaid, P.; Kapšai, J.; Arnus, J.; Sammelselg, V. (2009). Etching Rates of TiO2 and Al2O3 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition. Book of abstracts: Baltic Conference on Atomic Layer Deposition 2009; Uppsala, Sweden; June 15-16, 2009. Sweden: Uppsala Universitet, P24.
1.1.
2008
Virro, K.; Mellikov, E.; Volobujeva, O.; Sammelselg, V.; Asari, J.; Paama, L.; Jürgens, J.; Leito, I. (2008). Estimation of uncertainty in electron probe microanalysis: iron determination in manuscripts, a case study. Microchimica Acta, 162, 313−323. DOI: 10.1007/s00604-007-0821-0.
1.1.
2006
Lulla, M.; Asari, J.; Aarik, J.; Kukli, K.; Rammula, R.; Tapper, U.; Kauppinen, E.; Sammelselg, V. (2006). Electron Probe Microanalysis of HfO2 Thin Films on Conductive and Insulating Substrates. Microchimica Acta, 155, 195−198. DOI: 10.1007/s00604-006-0542-9.
1.1.
2002
Sammelselg, V.; Rauhala, E.; Arstila, K.; Zakharov, A.; Aarik, J.; Kikas, A.; Karlis, J.; Tarre, A.; Seppala, A.; Asari, J.; Martinson, I. (2002). Study of thin oxide films by electron, ion and synchrotron radiation beams. Mikrochimica Acta, 139, 165−169.
1.1.
1998
Kaambre, H.; Bichevin, V.; Sammelselg, V.; Kelle, H.; Asari, E.; Saks, O. (1998). Spectral and temporal characteristics of photostimulated exoemission from coldworked metals. Applied Surface Science, 136, 55−61.
1.1.
1996
Bichevin, V.; Kaambre, H.; Sammelselg, V.; Kelle, H.; Asari, E.; Saks, O. (1996). Exoemissive noise activity of different metallic materials. Review of Scientific Instruments, 67 (11), 3951−3953.
14.05.2019

Jelena Asari

https://www.etis.ee/CV/Jelena_Asari/eng
15.08.1944
737 4703
733 9975
jelena.asari@ut.ee
University of Tartu, Institute of Physics, Riia 142, 51014 Tartu, Estonia

Career

Institutions and positions
01.01.2007–30.04.2007   
University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, Engineer (0,50)
01.01.2006–31.12.2006   
University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, Engineer (0,80)
01.06.2005–31.12.2005   
University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, Engineer (0,75)
01.06.2005–31.12.2005   
University of Tartu, Faculty of Physics and Chemistry, Institute of Physical Chemistry, Engineer (0,25)
01.02.2005–31.05.2005   
University of Tartu, Faculty of Physics and Chemistry, Institute of Physical Chemistry, Engineer (0,50)
01.01.2005–31.05.2005   
University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, Engineer (0,50)
2004–2004   
University of Tartu, Faculty of Physics and Chemistry, Institute of Physical Chemistry, insener (0,50)
01.01.2001–31.12.2006   
Institute of Physics, University of Tartus (engineer)
01.01.1991–31.12.2001   
Institute of Physics, Estonian Academy of Sciences( engineer)
01.01.1973–31.12.1991   
Institute of Physics, Acad. Sci. Estonian SSR( engineer)
01.01.1967–31.12.1973   
Inst. of Phys. and Astronomy Acad. Sci. Est.SSR( engineer)
 
 
Education
1962–1967   
Tartu State University, physics (electronics)

Qualifications

Academic degrees
Jelena Asari, Master's Degree, 1967, (sup) Alar Gerst, Aktiveeritud kaadmiumsulfiid monokristallide fotoelktriliste ja luminestsents omaduste uurimine, Tartu State University.
 
 
Fields of research
ETIS CLASSIFICATION: 4. Natural Sciences and Engineering; 4.12. Process Technology and Materials Science; CERCS CLASSIFICATION: T150 Material technology
 
 

Completed projects

Publications

Category
Year
Publication
 
1.1.
2013
Sammelselg, V.; Netšipailo, I.; Aidla, A.; Tarre, A.; Aarik, L.; Asari, J.; Ritslaid, P.; Aarik, J. (2013). Chemical resistance of thin film materials based on metal oxides grown by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 542, 219−224. DOI: 10.1016/j.tsf.2013.06.079.
5.2.
2010
Tarre, A.; Aidla, A.; Mändar, H.; Asari, J.; Uustare, T.; Rosental, A. (2010). Iodide/ozone system in aomic layer deposition of tin dioxide. Conference Program & Abstracts Booklet: Baltic ALD 2010 & GerALD 2; Hamburg, Germany; Sept. 16-17, 2010.
5.2.
2009
Netšipailo, I.; Aarik, J.; Aidla, A.; Asari, J.; Ritslaid, P.; Kapšai, J.; Arnus, J.; Sammelselg, V. (2009). Etching Rates of TiO2 and Al2O3 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition. Book of abstracts: Baltic Conference on Atomic Layer Deposition 2009; Uppsala, Sweden; June 15-16, 2009. Sweden: Uppsala Universitet, P24.
1.1.
2008
Virro, K.; Mellikov, E.; Volobujeva, O.; Sammelselg, V.; Asari, J.; Paama, L.; Jürgens, J.; Leito, I. (2008). Estimation of uncertainty in electron probe microanalysis: iron determination in manuscripts, a case study. Microchimica Acta, 162, 313−323. DOI: 10.1007/s00604-007-0821-0.
1.1.
2006
Lulla, M.; Asari, J.; Aarik, J.; Kukli, K.; Rammula, R.; Tapper, U.; Kauppinen, E.; Sammelselg, V. (2006). Electron Probe Microanalysis of HfO2 Thin Films on Conductive and Insulating Substrates. Microchimica Acta, 155, 195−198. DOI: 10.1007/s00604-006-0542-9.
1.1.
2002
Sammelselg, V.; Rauhala, E.; Arstila, K.; Zakharov, A.; Aarik, J.; Kikas, A.; Karlis, J.; Tarre, A.; Seppala, A.; Asari, J.; Martinson, I. (2002). Study of thin oxide films by electron, ion and synchrotron radiation beams. Mikrochimica Acta, 139, 165−169.
1.1.
1998
Kaambre, H.; Bichevin, V.; Sammelselg, V.; Kelle, H.; Asari, E.; Saks, O. (1998). Spectral and temporal characteristics of photostimulated exoemission from coldworked metals. Applied Surface Science, 136, 55−61.
1.1.
1996
Bichevin, V.; Kaambre, H.; Sammelselg, V.; Kelle, H.; Asari, E.; Saks, O. (1996). Exoemissive noise activity of different metallic materials. Review of Scientific Instruments, 67 (11), 3951−3953.
14.05.2019

Otsi projekti

  • {{item.Name}}
Asutus on projekti finantseerija   Asutus on projekti teostaja  
  • {{searchListItem.Name}}
Kõik   Tavaprojektid   Ülemprojektid   Alamprojektid  
Uus Frascati (2015)
Uus ja vana Frascati (otsing uue järgi väljastab ka seotud vanad)
Kõik
Käimasolevad
Lõppenud
Algus
Hajus
Täpne
Lihtotsing Tühjenda
  • Leitud 6 kirjet
ProgrammLiikNumberNimiProjekti algusProjekti lõppVastutav täitjaAsutusFinantseerijapoolne rahastamine
MTTMTT1Grafeenil põhinevate nanostruktuuride valmistamine, töötlemine ja karakteriseerimine01.03.200928.02.2014Harry AllesTartu Ülikool; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut479 337,36 EUR
IUTIUT2-24Kilestruktuurid nanoelektroonika rakendusteks ja funktsionaalseteks pinnakateteks01.01.201331.12.2018Väino SammelselgTartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond, füüsika instituut2 688 000,00 EUR
MUUSLOFY12164T (3.2.1101.12-0026)Metalli pindasid funktsionaliseerivad ja kaitsvad õhukesed nanomaterjalidest pinnakatted01.07.201231.12.2014Väino SammelselgTartu Ülikool406 915,50 EUR
SFSF0382149s02Nanostruktuursed materjalid01.01.200231.12.2006Arnold RosentalTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut792 696,19 EUR
MUUSLOFY12189T (2.1.1101.12-0006)Täiustatud materjalitehnoloogia GaAs-põhiste elektroonika seadiste valmistamiseks01.07.201231.12.2014Jaan AarikTartu Ülikool; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond402 467,50 EUR
TKSLTKT16141T (TK141)Uudsed materjalid ja kõrgtehnoloogilised seadmed energia salvestamise ja muundamise süsteemidele (TK141)01.01.201601.03.2023Enn LustTartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond3 293 473,70 EUR