See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus
一种IPMC材料基体膜的糙化工艺
Patentne leiutis: 一种IPMC材料基体膜的糙化工艺; Omanikud: Xi'an Jiaotong University; Autorid: Hualing Chen, Yanjie Wang, Chi Zhang, Zicai Zhu, Yongquan Wang, Shuhai Jia; Prioriteedi kuupäev: 29.08.2013.
Patentne leiutis
一种IPMC材料基体膜的糙化工艺
  • Hualing Chen
  • Yanjie Wang
  • Chi Zhang
  • Zicai Zhu
  • Yongquan Wang
  • Shuhai Jia
  • Xi'an Jiaotong University
Prioriteeditaotlus
29.08.2013
Rahvusvaheline (IPC)
Hiina Rahvavabariik
Kaitstud