Kasvutingimuste ja -aluste mõju TiO2 aatomkihtsadestumisele

Tõnis Arroval, magistrikraad, 2012, (juh) Jaan Aarik, Kasvutingimuste ja -aluste mõju TiO2 aatomkihtsadestumisele, Tartu Ülikool.
Tõnis Arroval
magistrikraad
Kaitstud
Ei
31.08.2009
18.06.2012
2012
Eesti
Kasvutingimuste ja -aluste mõju TiO2 aatomkihtsadestumisele
Influence of growth conditions and substrate material on atomic layer deposition of TiO2
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaator
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT155 Pinded ja pinnatehnoloogia