Aatomkihtsadestatud hafniumtitaanoksiid-kilede elektrilised omadused

Agnes Vask, magistrikraad, 2017, (juh) Jaan Aarik, Aatomkihtsadestatud hafniumtitaanoksiid-kilede elektrilised omadused, Tartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond, füüsika instituut.
Agnes Vask
magistrikraad
Kaitstud
Ei
31.08.2015
21.06.2017
2017
Eesti
Aatomkihtsadestatud hafniumtitaanoksiid-kilede elektrilised omadused
Aatomkihtsadestatud hafniumtitaanoksiid-kilede elektrilised omadused
Electrical properties of hafnium-titanium oxide thin films grown by atomic layer deposition
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaator
4. Loodusteadused ja tehnika4.10. FüüsikaP265 Pooljuhtide füüsika