Epitaksiaalse TiO2 aatomkihtsadestamine safiirile: aluse orientatsiooni mõju õhukeste kilede struktuurile ja kasvukiirusele

Kristel Möls, magistrikraad, 2014, (juh) Jaan Aarik; Aivar Tarre, Epitaksiaalse TiO2 aatomkihtsadestamine safiirile: aluse orientatsiooni mõju õhukeste kilede struktuurile ja kasvukiirusele, Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, Materjaliteaduse osakond.
Kristel Möls
magistrikraad
Kaitstud
Ei
3.09.2012
17.06.2014
2014
Eesti
Epitaksiaalse TiO2 aatomkihtsadestamine safiirile: aluse orientatsiooni mõju õhukeste kilede struktuurile ja kasvukiirusele
Atomic Layer Deposition of Epitaxial TiO2 on Sapphire: Effect of Substrate Orientation on Structure and Growth Rate of Thin Films
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaator
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT150 Materjalitehnoloogia