Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films

Jaan Aarik, doktorikraad, 2007, (juh) Lembit Pung, Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films (Titaan-, tsirkoonium- ja hafniumdioksiidide aatomkihtsadestamine: kasvumehhanismid ja õhukeste kilede omadused), Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond.
Jaan Aarik
doktorikraad
Kaitstud
Jah
1.09.1994
2007
Inglise
Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films
Titaan-, tsirkoonium- ja hafniumdioksiidide aatomkihtsadestamine: kasvumehhanismid ja õhukeste kilede omadused
Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond