Atomic layer deposition study of HfO2 thin films

Raul Rammula, magistrikraad (teaduskraad), 2005, (juh) Jaan Aarik; Väino Sammelselg, Atomic layer deposition study of HfO2 thin films, Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond, Materjaliteaduse instituut.
Raul Rammula
magistrikraad (teaduskraad)
Kaitstud
Ei
1.09.2003
2005
Eesti
Atomic layer deposition study of HfO2 thin films
HfO2 kilede aatomkihtkasvu uurimine