Metastabiilsed faasid õhukestes ja üliõhukestes oksiidkiledes: stabiliseerimine, omadused ja mõju kilede kasvule aatomkihtsadestamise protsessides

Kristel Möls, doktorant, (juh) Jaan Aarik; Hugo Mändar, Metastabiilsed faasid õhukestes ja üliõhukestes oksiidkiledes: stabiliseerimine, omadused ja mõju kilede kasvule aatomkihtsadestamise protsessides, Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut.
Kristel Möls
doktorikraad
Õpingud pooleli
Ei
1.09.2014
Eesti
Metastabiilsed faasid õhukestes ja üliõhukestes oksiidkiledes: stabiliseerimine, omadused ja mõju kilede kasvule aatomkihtsadestamise protsessides
Metastable Phases in Thin and Ultrathin Oxide Films: Stabilization, Properties and Influence on Film Growth in Atomic Layer Deposition Processes
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaator
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT150 Materjalitehnoloogia