Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

Lauri Aarik, doktorikraad, 2017, (juh) Väino Sammelselg, Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings, Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, Materjaliteaduse osakond.
Lauri Aarik
doktorikraad
Kaitstud
Ei
1.01.2012
5.12.2017
2017
Inglise
Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings
Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaator
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT150 Materjalitehnoloogia