Jaan Aarik

1.01.1951
737 4674
jaan.aarik@ut.ee
University of Tartu, Institute of Physics, Riia 142, 51014 Tartu, Estonia

Career

Institution and position
01.09.2009–31.08.2014    University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, Professor (1,00)
01.01.2008–30.04.2008    University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, Extraordinary Senior Researcher (1,00)
2008–2009    University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, Senior Researcher (1,00)
01.01.2002–31.12.2007    Institute of Physics, University of Tartu (researcher)
01.01.1997–31.12.1999    Coherent Tutcore Ltd. (consultant)
01.01.1994–31.12.1997    Tampere University of Technology (researcher)
01.01.1990–31.12.1992    Institute of Physics, Estonian Academy of Sciences (senior researcher)
01.01.1986–31.12.2001    University of Tartu (engineer, senior researcher, head of division, researcher)
01.01.1974–31.12.1986    Institute of Physics, Acad. Sci. Estonian SSR (junior researcher, senior researcher)
01.01.1971–31.12.1974    Tartu State University (research assistant)
 
 
R&D related managerial and administrative work
2008−...    Head of the Laboratory of Thin Film Technology
2007−...    Member of the Scientific Council of the Institute of Physics, University of Tartu
2009−2012    Member of Estonian Research Council

Qualifications

 
 
Honours & awards
2013, Jaan Aarik, Member of Estonian Academy of Sciences
2007, Jaan Aarik, State Prize of Estonian Republic in technology
2005, Jaan Aarik, Prize of Estonian Physical Society
1982, Jaan Aarik, State Prize of Estonian SSR in science and technology
 
 

Completed projects

Supervised dissertations

Publications

Category
Year
Publication
 
1.1.
2015
1.1.
2015
1.1.
2015
1.1.
2015
1.1.
2015
1.1.
2015
1.1.
2014
1.1.
2014
1.1.
2014
1.1.
2014
1.1.
2014
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2012
1.1.
2012
1.1.
2011
1.1.
2011
1.1.
2011
1.1.
2011
1.1.
2011
1.1.
2010
1.1.
2010
1.1.
2010
1.1.
2010
1.1.
2009
1.1.
2009
1.1.
2008
1.1.
2008
1.1.
2008
1.1.
2008
1.1.
2008
1.1.
2008
1.1.
2008
1.1.
2008
1.1.
2007
1.1.
2007
1.1.
2007
1.1.
2007
1.1.
2007
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2006
1.1.
2005
1.1.
2005
1.1.
2005
1.1.
2005
1.1.
2005
1.1.
2005
1.1.
2005
1.1.
2005
1.1.
2005
1.1.
2004
1.1.
2004
1.1.
2004
1.1.
2004
1.1.
2004
1.1.
2004
1.1.
2004
1.1.
2004
1.1.
2004
1.1.
2003
1.1.
2003
1.1.
2003
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2002
1.1.
2001
1.1.
2001
1.1.
2001
1.1.
2001
1.1.
2001
1.1.
2001
1.1.
2001
1.1.
2001
1.1.
2000
1.1.
2000
1.1.
2000
1.1.
2000
1.1.
2000
1.1.
2000
1.1.
2000
1.1.
1999
1.1.
1999
1.1.
1999
1.1.
1999
1.1.
1998
1.1.
1998
1.1.
1997
1.1.
1997
1.1.
1997
1.1.
1997
1.1.
1997
1.1.
1996
1.1.
1996
1.1.
1996
1.1.
1996
1.1.
1996
1.1.
1995
1.1.
1995
1.1.
1995
1.1.
1995
1.1.
1995
1.1.
1995
1.1.
1994
1.1.
1994
1.1.
1994
1.1.
1994
1.1.
1994
1.1.
1990
1.1.
1987
1.1.
1984
1.1.
1980

Jaan Aarik

1.01.1951
737 4674
jaan.aarik@ut.ee
Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, Riia 142, 51014 Tartu

Teenistuskäik

 
 
Teadusorganisatsiooniline ja -administratiivne tegevus
2008−...    Kiletehnoloogia labori juhataja
2007−...    Tartu Ülikooli Füüsika Instituudi teadusnõukogu liige
2009−2012    Teaduskompetentsi Nõukogu liige

Kvalifikatsioon

Teaduspreemiad ja tunnustused
2013, Jaan Aarik, Eesti Teaduste Akadeemia akadeemik
2007, Jaan Aarik, Eesti Vabariigi teaduspreemia tehnikateaduste alal
2005, Jaan Aarik, Eesti Füüsika Seltsi aastapreemia
1982, Jaan Aarik, Eesti NSV riiklik preemia teaduse ja tehnika alal
  • Leitud 15 kirjet
ProgrammNumberNimiProjekti algusProjekti lõppVastutav täitjaAsutusRahastamine kokku
IUTIUT2-24Kilestruktuurid nanoelektroonika rakendusteks ja funktsionaalseteks pinnakateteks01.01.201331.12.2018Väino SammelselgTartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond, Keemia instituut1 792 000,00 EUR
MUUSLOFY12164T (3.2.1101.12-0026)Metalli pindasid funktsionaliseerivad ja kaitsvad õhukesed nanomaterjalidest pinnakatted01.07.201231.12.2014Väino SammelselgTartu Ülikool406 915,50 EUR
ETFETF9088Mitte-isostruktuursed epitaksiaalsed kiled: kasvatamine ja struktuuri määramine01.01.201231.12.2015Hugo MändarTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut54 825,60 EUR
IUTIUT20-54Nanomaterjalid - uuringud ja rakendused01.01.201431.12.2019Jaan AarikTartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond, Füüsika instituut216 000,00 EUR
ETFETF7845Nanomõõtmelised metall-dielektrik-struktuurid01.01.200931.12.2012Jaan AarikTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond65 680,38 EUR
SFSF0382149s02Nanostruktuursed materjalid01.01.200231.12.2006Arnold RosentalTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut792 696,19 EUR
ETFETF6999Optiliste protsesside stimuleerimine ja kontroll oksiidsetes nanomaterjalides: rakendusvõimalusi fotoonikas ja sensoorikas01.01.200731.12.2010Ilmo SildosTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond61 030,00 EUR
MUUSLOFY10093EPaardunud spinnid grafeenis01.06.201030.09.2013Jaan AarikTartu Ülikool; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut191 699,99 EUR
ETFETF5861Pinna- ja siirdekihtide mõju laia keelutsooniga oksiidikilede aatomkihtkasvule ja omadustele01.01.200431.12.2007Arnold RosentalTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut102 754,59 EUR
SFSF0180046s07Pinnanähtused tahkisefüüsikas ja -tehnoloogias01.01.200731.12.2012Väino SammelselgTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut1 590 665,57 EUR
MUUSLOKT12180T (3.2.1101.12-0019)Süsinik-nanomaterjalide funktsionalisatsioon, süntees, karakteriseerimine ja rakendused01.04.201231.03.2015Enn LustTartu Ülikool438 035,50 EUR
MUULLTFY16082Tehnoloogiaalase nõustamise ja teostatavusuuringute läbiviimiseks GaAs p-i-n-struktuuride pinna passiveerimise alal23.03.201619.05.2016Jaan AarikTartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond, Füüsika instituut5 000,00 EUR
MUUSLOFY12189T (2.1.1101.12-0006)Täiustatud materjalitehnoloogia GaAs-põhiste elektroonika seadiste valmistamiseks01.07.201231.12.2014Jaan AarikTartu Ülikool; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond402 467,50 EUR
SFSF0382150s02Valgustundlike materjalide laserspektroskoopia ja nende rakendused01.01.200231.12.2006Jaak KikasTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut629 082,36 EUR
ETFETF5864Õhukeste metalloksiidkilede ja -fiibrite spektroskoopilised uuringud ja uudsed rakendused01.01.200431.12.2006Ilmo SildosTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut44 393,03 EUR
  • Leitud 222 kirjet
PublikatsioonKlassifikaatorFail
Duenas,S.; Castán, H.; García, H.; Arroval, T.; Tamm, A.; Kukli, K.; Aarik, J. (2016). (Invited) A Complete Suite of Experimental Techniques for Electrical Characterization of Conventional and Incoming High-k Dielectric-Based Devices. ECS Transactions, 72 (2), 153−165, DOI: 10.1149/07202.0153ecst .1.1.
Niilisk, Ahti; Kozlova, Jekaterina; Alles, Harry; Aarik, Jaan; Sammelselg, Väino (2016). Raman characterization of stacking in multi-layer graphene grown on Ni. Carbon, 98, 658−665, 10.1016/j.carbon,2015.11.050.1.1.
Ahti, Niilisk;Jekaterina, Kozlova; Harry, Alles; Jaan, Aarik; Väino, Sammelselg (2016).

Stacking modes in multilayer graphene grown on Ni: Raman characterization

. Abstract Book: Graphene Week 2016, Warsaw,Poland,13-17 June 2016. Ed. Graphene Flagship. Warsaw: Warsaw University Press, 366.
5.2.
Castán, H.; Dueñas, S.; García, H.; Bailón, L.; Kukli, K.; Tamm, A.; Kozlova, J.; Aarik, J.; Mizohata, K. (2015). Charge and current hysteresis in dysprosium-doped zirconium oxide thin films. Microelectronic Engineering, 147, 55−58, j.mee.2015.04.022.1.1.
Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Aarik, Jaan; Kukli, Kaupo; Link, Joosep; Stern, Raivo. (2015). Dysprosium oxide and dysprosium-oxide-doped titanium oxide thin films grown by atomic layer deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A-Vacuum Surfaces and Films, 33 (1), 01A127, 1.4902079.1.1.
Arroval, Tõnis; Aarik, Lauri; Rammula, Raul; Aarik, Jaan (2015). Growth of TixAl1−xOy films by atomic layer deposition using successive supply of metal precursors. Thin Solid Films, 591 (B), 276−284, j.tsf.2015.03.014.1.1.
Sven Lange, Tõnis Arroval, Rando Saar, Ilmar Kink, Jaan Aarik, Andres Krumme (2015). Oxygen Barrier Properties of Al2O3- and TiO2-coated LDPE Films. Polymer-Plastics Technology and Engineering, 54 (3), 301−304, 03602559.2014.977426.1.1.
Kiisk, Valter; Tamm, Aile; Utt, Kathriin; Kozlova, Jekaterina; Mändar, Hugo; Puust, Laurits; Aarik, Jaan; Sildos, Ilmo. (2015). Photoluminescence of atomic layer deposited ZrO2:Dy3+ thin films. Thin Solid Films, 583, 70−75, j.tsf.2015.03.041.1.1.
Niilisk, Ahti; Kahro, Tauno; Kiisk, Valter; Rähn, Mihkel; Alles, Harry; Aarik, Jaan; Sammelselg, Väino (2015). Raman modes in transferred bilayer CVD graphene. Open Physics, 13 (1), 34−40, phys-2015-0003.1.1.
Castán, H.; García, H.; Dueñas, S.; Bailón, L.;Kukli, K.; Tamm, A.; Aarik, J.; Mizohata, K. (2015). Charge and current hysteresis in dysprosium-doped zirconium oxide thin films. INFOS 2015, Insulating Films on Semiconductors"-INFOS 2015, Udine (Italy) from 29th June to 2 July 2015. Elsevier, 55−58.3.1.
Raud, J.; Jõgi, I.; Aarik, J.; Kiisler, A.-A.; Kodu, M.; Matisen, L.; Nõmmiste, E.; Talviste, R.; Trunec, D. (2015). Nitritation of GaAs in mid-pressure Ar/N2/H2 RF discharge. 5.2.
Aarik, Lauri; Arroval, Tõnis; Rammula, Raul; Mändar, Hugo; Sammelselg, Väino; Hudec, Boris; Hušeková, Kristína; Fröhlich, Karol; Aarik, Jaan (2014). Atomic layer deposition of high-quality Al2O3 and Al-doped TiO2 thin films from hydrogen-free precursors. Thin Solid Films, 565, 19−24, j.tsf.2014.06.038.1.1.
Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Aidla, Aleks; Lu, Jun; Kiisler, Alma-Asta; Kasikov, Aarne; Ritslaid, Peeter; Mändar, Hugo; Hultman, Lars; Sammelselg, Väino; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2014). Atomic layer deposition of ZrO2 for graphene-based multilayer structures: In situ and ex situ characterization of growth process. Physica Status Solidi A - Applications and Materials Science, 211 (2), 397−402, pssa.201330106.1.1.
Arroval, T.; Aarik, L.; Rammula, R.; Mändar, H.; Aarik, J.; Hudec, B.; Hušekova, K.; Fröhlich, K. (2014). Influence of growth temperature on the structure and electrical properties of high-permittivity TiO2 films in TiCl4-H2O and TiCl4-O3 atomic-layer-deposition processes. Physica Status Solidi A - Applications and Materials Science, 211 (2), 425−432, pssa.201330086.1.1.
Aarik, Lauri; Alles, Harry; Aidla, Aleks; Kahro, Tauno; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Mändar, Hugo; Tamm, Aile; Rammula, Raul; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan (2014). Influence of process parameters on atomic layer deposition of ZrO2 thin films from CpZr(NMe2)3 and H2O. Thin Solid Films, 565, 37−44, j.tsf.2014.06.052.1.1.
Jaaniso, Raivo; Kahro, Tauno; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Jaan; Aarik, Lauri; Alles, Harry; Floren, Aare; Gerst, Alar; Kasikov, Aarne; Niilisk, Ahti; Sammelselg, Väino (2014). Temperature induced inversion of oxygen response in CVD graphene on SiO2. Sensors and Actuators B-Chemical, 190, 1006−1013, 10.1016/j.snb.2013.09.068.1.1.
Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Arroval, Tõnis; Ritslaid, Peeter; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2014). Atomic Layer Deposition and Characterization of Dysprosium-Doped Zirconium Oxide Thin Films. Baltic ALD 2014, 12-13 mai, 2014 Helsinki, Soome. 5.2.
Tamm, Aile; Krasenko, Veera; Boltruško, Vadim; Lu, Jun; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Hultman, Lars; Kukli, Kaupo; Hižnyakov, Vladimir; Aarik, Jaan (2014). Deposition of Zirconium Oxide on Graphene stimulated by Carbon Nanoparticles. EMRS 2014, 26-30 mai, Lille, Prantsusmaa. 5.2.
Mändar, Hugo; Rammula, Raul; Aidla, Aleks; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of epitaxial HfO2 thin films on r-cut sapphire. Journal of Materials Research, 28 (13), 1680−1686, 10.1557/jmr.2013.120.1.1.
Tarre, Aivar; Möldre, Kristel; Niilisk, Ahti; Mändar, Hugo; Aarik, Jaan; Rosental, Arnold (2013). Atomic layer deposition of epitaxial TiO2 II on c-sapphire. Journal of Vacuum Science and Technology A, 31 (1), 01A118-1−01A118-5, 10.1116/1.4764892.1.1.
Tamm, Aile; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Mändar, Hugo; Aidla, Aleks; Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Roosalu, Kaspar; Lu, Jun; Hultman, Lars; Koel, Mihkel; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of high-k dielectrics on carbon nanoparticles. Thin Solid Films, 538, 16−20, 10.1016/j.tsf.2012.09.071.1.1.
Aarik, Jaan; Arroval, Tõnis; Aarik, Lauri; Rammula, Raul; Kasikov, Aarne; Mändar, Hugo; Hudec, Boris; Hus'ekova, Kristina; Fröhlich, Karol (2013). Atomic layer deposition of rutile phase TiO2 on RuO2 from TiCl4 and O3: Growth of high-permittivity dielectrics with low leakage current. Journal of Crystal Growth, 382, 61−66, 10.1016/jjcrystgro.2013.08.006.1.1.
Aarik, Lauri; Arroval, Tõnis; Rammula, Raul; Mändar, Hugo; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of TiO2 from TiCl4 and O3. Thin Solid Films, 542, 100−107, 10.1016/j.tsf.2013.06.074.1.1.
Sammelselg, V.; Netšipailo, I.; Aidla, A.; Tarre, A.; Aarik, L.; Asari, J.; Ritslaid, P.; Aarik, J. (2013). Chemical resistance of thin film materials based on metal oxides grown by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 542, 219−224, 10.1016/j.tsf.2013.06.079.1.1.
Hudec, Boris; Hus'ekova, Kristina; Rosova, Alica; S'oltys, Jan; Rammula, Raul; Kasikov, Aarne; Uustare, Teet; Mic'us'ik, Matej; Omastova, Maria; Aarik, Jaan; Fröhlich, Karol (2013). Impact of plasma treatment on electrical properties of TiO2/RuO2 based DRAM capacitor. Journal of Physics D: Applied Physics, 46 (38), 385304−8, oo22-3727/38/385304.1.1.
  • Leitud 11 kirjet
PealkiriJuhendatavKraadJuhendajaKaitsmise staatusKaitsmise aastaAsutus
Atomic layer deposition of HfO2 - nucleation, growth and structure development of thin filmsRammula, RauldoktorikraadVäino Sammelselg; Jaan AarikKaitstud2011Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut
Atomic layer deposition study of HfO2 thin filmsRammula, Raulmagistrikraad (teaduskraad)Jaan Aarik; Väino SammelselgKaitstud2005Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond, Materjaliteaduse instituut
Epitaksiaalse TiO2 aatomkihtsadestamine safiirile: aluse orientatsiooni mõju õhukeste kilede struktuurile ja kasvukiiruseleMöldre, Kristel; Kristel MöldremagistrikraadJaan Aarik; Aivar TarreKaitstud2014Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, Materjaliteaduse osakond
Epitaxial thin films: growth and structure analysisRoosalu, KaspardoktorikraadHugo Mändar; Jaan AarikJuhendamiselTartu Ülikool
Investigation of atomic layer epitaxial growth of tantalum oxide thin filmsKukli, Kaupomagistrikraad (teaduskraad)Jaan AarikKaitstud1993Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond
Investigation of atomic layer growth of aluminium and indium oxide thin filmsAndres Jaekmagistrikraad (teaduskraad)Jaan AarikKaitstud1994Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond
Kasvutingimuste ja -aluste mõju TiO2 aatomkihtsadestumiseleArroval, TõnismagistrikraadJaan AarikKaitstud2012Tartu Ülikool
Kroomoksiidil põhinevate gaasisensorite uuringudNetšipailo, IvanmagistrikraadJaan Aarik; Alar GerstKaitstud2008Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut
Metastabiilsed faasid õhukestes ja üliõhukestes oksiidkiledes: stabiliseerimine, omadused ja mõju kilede kasvule aatomkihtsadestamise protsessidesMöldre, Kristel; Kristel MöldredoktorikraadJaan Aarik; Hugo MändarJuhendamiselTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut
Optical parameters of atomic-layer-deposited titanium, tantalum and aluminum oxide and their alloysOksana Kohanmagistrikraad (teaduskraad)Jaan AarikKaitstud1994Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond
Thin films for nanodimensional memory structures: growth and crystallization in atomic layer deposition processesArroval, TõnisdoktorikraadJaan AarikJuhendamiselTartu Ülikool