Lauri Aarik

Teenistuskäik

Töökohad ja ametid
01.01.2010–31.12.2011    Eesti Nanotehnoloogiate Arenduskeskuse AS, projektijuht
01.01.2009–31.01.2010    Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, insener (0,50)
01.04.2007–31.12.2007    Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, insener (0,10)
 
 
Haridustee
2012–...    Materjaliteaduse doktorant

Publikatsioonid

Klass
Aasta
Publikatsioon
 
1.1.
2014
1.1.
2014
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2013
5.2.
2013
1.2.
2012
5.2.
2012

Lauri Aarik

22.11.1980
laarik@ut.ee

Career

Institution and position
01.01.2010–31.12.2011    Estonian Nanotechnology Competence Center, project manager
01.01.2009–31.01.2010    University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, engineer (0,50)
01.04.2007–31.12.2007    University of Tartu, Faculty of Science and Technology (old), Institute of Physics, University of Tartu, insener (0,10)
 
 
Education
2012–...   

Publications

Category
Year
Publication
 
1.1.
2014
1.1.
2014
1.1.
2014
1.1.
2014
1.1.
2014
5.2.
2014
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2013
1.1.
2013
3.1.
2013
3.1.
2013
5.2.
2013
1.2.
2012
5.2.
2012
  • Leitud 8 kirjet
ProgrammNumberNimiProjekti algusProjekti lõppVastutav täitjaAsutusRahastamine kokku
ETFETF8666Aatomkontrollitud kaitsvad katted01.01.201131.12.2012Väino SammelselgTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut22 080,00 EUR
MTTMTT1Grafeenil põhinevate nanostruktuuride valmistamine, töötlemine ja karakteriseerimine01.03.200928.02.2014Harry AllesTartu Ülikool; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut479 337,36 EUR
IUTIUT2-24Kilestruktuurid nanoelektroonika rakendusteks ja funktsionaalseteks pinnakateteks01.01.201331.12.2018Väino SammelselgTartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond, Füüsika instituut2 240 000,00 EUR
MUUSLOFY12164T (3.2.1101.12-0026)Metalli pindasid funktsionaliseerivad ja kaitsvad õhukesed nanomaterjalidest pinnakatted01.07.201231.12.2014Väino SammelselgTartu Ülikool406 915,50 EUR
SFSF0180043s08Nanomeeterosakeste tekkimine ja aerosooliosakeste mõõtmespektri kujunemine nõrgalt ioniseeritud atmosfääri keskkonnas01.01.200831.12.2013Urmas HõrrakTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut579 545,81 EUR
MUUVLOFY15110Reaktor Lindele15.06.201515.10.2015Lauri AarikTartu Ülikool; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut9 625,00 EUR
MUUMLOFY10124RRODIN - Rippuvad grafeenil põhinevad nanostruktuurid01.10.201030.09.2013Harry AllesTartu Ülikool; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut185 168,02 EUR
ETFETF6535Uute analüüsimeetodite arendamine keskkonnakiirguse rakendustes01.01.200531.12.2009Madis KiiskTartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut; Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond30 345,58 EUR
  • Leitud 25 kirjet
PublikatsioonKlassifikaatorFail
Mondal, Jayanta; Marques, Andreia; Aarik, Lauri; Kozlova, Jekaterina; Simões, Alda; Sammelselg, Väino (2016). Development of thin ceramic-graphene nanolaminated coating for corrosion protection of stainless steel. Corrosion Science, 105, 161−169, 10.1016/j.corsci.2016.01.013.1.1.
Tamm, A.; Kozlova, J.; Arroval, T.; Aarik, L.; Ritslaid, P.; Garcıa, H.; Castan, H.; Duenas, S.; Kukli, K.; Aarik, J. (2015). Atomic Layer Deposition and Characterization of Dysprosium-Doped Zirconium Oxide Thin Films. Chemical Vapor Deposition, 21, 181−187, 10.1002/cvde.201507170.1.1.
Möldre, Kristel; Aarik, Lauri; Mändar, Hugo; Niilisk, Ahti; Rammula, Raul; Tarre, Aivar; Aarik, Jaan. (2015). Atomic layer deposition of rutile and TiO2-II from TiCl4 and O3 on sapphire: Influence of substrate orientation on thin film structure. Journal of Crystal Growth, 428, 86−92, 10.1016/j.jcrysgro.2015.07.029.1.1.
Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Aarik, Jaan; Kukli, Kaupo; Link, Joosep; Stern, Raivo. (2015). Dysprosium oxide and dysprosium-oxide-doped titanium oxide thin films grown by atomic layer deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A-Vacuum Surfaces and Films, 33 (1), 01A127, 10.1116/1.4902079.1.1.
J. Mondal, L. Aarik, J. Kozlova, A. Niilisk, H. Mändar, U. Mäeorg, A. Simões, V. Sammelselg (2015). Functionalization of Titanium Alloy Surface by Graphene Nanoplatelets and Metal Oxides: Corrosion Inhibition. Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 15 (9), 6533−6540, 10.1166/jnn.2015.10775.1.1.
Arroval, Tõnis; Aarik, Lauri; Rammula, Raul; Aarik, Jaan (2015). Growth of TixAl1−xOy films by atomic layer deposition using successive supply of metal precursors. Thin Solid Films, 591 (B), 276−284, 10.1016/j.tsf.2015.03.014.1.1.
Möldre, K.; Mändar, H.; Aarik, L.; Tarre, A.; Aarik, J. (2015). Structure characterization of lattice-matched rutile and TiO2-II phases grown by atomic layer deposition on α-Al2O3 (0 0 0 1). In: Acta Crystallographica (S520).5.2.
Mändar, Hugo; Aarik, Lauri; Tarre, Aivar; Aarik, Jaan (2015).

Structure characterization of lattice-matched rutile and TiO2-II phases grown by atomic layer deposition on α-Al2O3(0 0 1)

. Book of Abstracts 2015: 29th European Crystallographic Meeting; Rovinj, Croatia; August 23-28, 2015. International Union of Crystallography, s518.
5.2.
Aarik, Lauri; Arroval, Tõnis; Rammula, Raul; Mändar, Hugo; Sammelselg, Väino; Hudec, Boris; Hušeková, Kristína; Fröhlich, Karol; Aarik, Jaan (2014). Atomic layer deposition of high-quality Al2O3 and Al-doped TiO2 thin films from hydrogen-free precursors. Thin Solid Films, 565, 19−24, DOI:10.1016/j.tsf.2014.06.038.1.1.
Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Aidla, Aleks; Lu, Jun; Kiisler, Alma-Asta; Kasikov, Aarne; Ritslaid, Peeter; Mändar, Hugo; Hultman, Lars; Sammelselg, Väino; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2014). Atomic layer deposition of ZrO2 for graphene-based multilayer structures: In situ and ex situ characterization of growth process. Physica Status Solidi A - Applications and Materials Science, 211 (2), 397−402, 10.1002/pssa.201330106.1.1.
Arroval, T.; Aarik, L.; Rammula, R.; Mändar, H.; Aarik, J.; Hudec, B.; Hušekova, K.; Fröhlich, K. (2014). Influence of growth temperature on the structure and electrical properties of high-permittivity TiO2 films in TiCl4-H2O and TiCl4-O3 atomic-layer-deposition processes. Physica Status Solidi A - Applications and Materials Science, 211 (2), 425−432, 10.1002/pssa.201330086.1.1.
Aarik, Lauri; Alles, Harry; Aidla, Aleks; Kahro, Tauno; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Mändar, Hugo; Tamm, Aile; Rammula, Raul; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan (2014). Influence of process parameters on atomic layer deposition of ZrO2 thin films from CpZr(NMe2)3 and H2O. Thin Solid Films, 565, 37−44, 10.1016/j.tsf.2014.06.052.1.1.
Jaaniso, Raivo; Kahro, Tauno; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Jaan; Aarik, Lauri; Alles, Harry; Floren, Aare; Gerst, Alar; Kasikov, Aarne; Niilisk, Ahti; Sammelselg, Väino (2014). Temperature induced inversion of oxygen response in CVD graphene on SiO2. Sensors and Actuators B-Chemical, 190, 1006−1013, 10.1016/j.snb.2013.09.068.1.1.
Roosalu, Kaspar; Aarik, Lauri; Rammula, Raul; Aarik, Jaan; Kalutarage, Lakmal, C; Winter, Charles, H; Mändar, Hugo (2014). Atomic layer deposition of epitaxial Cr2O3 using bis(1,5-di-tert-butyl-1,2,5-triazapentadienyl)chromium(II) as chromium source. Baltic ALD 2014, 12-13 mai, 2014 Helsinki, Soome. 5.2.
Möldre, Kristel; Aarik, Lauri; Tarre, Aivar; Mändar, Hugo; Aarik, Jaan (2014).
Atomic Layer Deposition of TiO2 on Sapphire: Effect of Substrate Orientation on Structure and Growth Rate of Thin Films
. Book of Abstracts Baltic ALD 2014: 12th International Baltic Conference on Atomic Layer Depostion; Helsinki, Finland; May 12-13, 2014. Ed. Leskelä, Markku; Ritala, Mikko; Härkönen, Emma. Univesity of Helsinki, Finland, 147.
5.2.
Tamm, Aile; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Mändar, Hugo; Aidla, Aleks; Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Roosalu, Kaspar; Lu, Jun; Hultman, Lars; Koel, Mihkel; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of high-k dielectrics on carbon nanoparticles. Thin Solid Films, 538, 16−20, dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2012.09.071.1.1.
Aarik, Jaan; Arroval, Tõnis; Aarik, Lauri; Rammula, Raul; Kasikov, Aarne; Mändar, Hugo; Hudec, Boris; Hus'ekova, Kristina; Fröhlich, Karol (2013). Atomic layer deposition of rutile phase TiO2 on RuO2 from TiCl4 and O3: Growth of high-permittivity dielectrics with low leakage current. Journal of Crystal Growth, 382, 61−66, 10.1016/jjcrystgro.2013.08.006.1.1.
Aarik, Lauri; Arroval, Tõnis; Rammula, Raul; Mändar, Hugo; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of TiO2 from TiCl4 and O3. Thin Solid Films, 542, 100−107, 10.1016/j.tsf.2013.06.074.1.1.
Sammelselg, V.; Netšipailo, I.; Aidla, A.; Tarre, A.; Aarik, L.; Asari, J.; Ritslaid, P.; Aarik, J. (2013). Chemical resistance of thin film materials based on metal oxides grown by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 542, 219−224, 10.1016/j.tsf.2013.06.079.1.1.
Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Kasikov, Arne; Kozlova, Jekaterina; Kahro, Tauno; Matisen, Leonard; Niilisk, Ahti; Alles, Harry; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of aluminum oxide films on graphene. IOP Conference Series: Materials Science and Engineering, 49, 012014, 10.1088/1757-899X/49/1/012014.3.1.
Tamm, Aile; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Roosalu, Kaspar; Kärkkänen, Irina; Mändar, Hugo; Aarik, Jaan; Kukli, Kaupo (2013). Atomic Layer Deposition of Zirconium Oxide on Carbon Nanoparticles. IOP Publishing, IOP Conf. Series: Materials Science and Engineering, 49, 012019, 10.1088/1757-899X/49/1/012019.3.1.
Fröhlich, Karol; Hudec, Boris; Tapajna, Milan; Hušekova, Kristina; Rosova, Alica; Eliaš, Peter; Aarik, Jaan; Rammula, Raul; Kasikov, Aarne; Arroval, Tõnis; Aarik, Lauri; Murakami, Katsuhisa; Rommel, Mathias; Bauer, Anton J. (2013). TiO2-based Metal-Insulator-Metal Structures for Future DRAM Storage Capacities. ECS Transactions, 50 (13), 79−87, 10.1149/05013.0079ecst.3.1.
Tamm, A.; Kahro, T.; Kozlova, J.; Aarik, L.; Kasikov, A.; Mändar, H.; Rammula, R.; Niilisk, A.; Möldre, K.; Tarre, A.; Alles, H.; Kukli, K.; Aarik, J. (2013). Aatomkihtsadestud dielektikute uurimine grafeeni sisaldavas struktuuris. EMRS-2013, SPRING 13 symposium N: Atomic-scale engineering of multifunctional nano-sized materials and films : EMRS-2013, Strasbourg, Prantsusmaa, mai 2013. 5.2.
Lind, L.; Adoberg, E.; Aarik, L.; Kulu, P.; Veinthal, R.; Aal, A. A. (2012). Tribological properties of PVD coatings with lubricating films. Estonian Journal of Engineering, 18 (3), 193−201.1.2.
Tamm, Aile; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Aidla, Aleks; Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Lu, Jun; Hultman, Lars; Mändar, Hugo; Marandi, Margus; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2012). Atomic layer deposition of high-k dielectrics on carbon nanoparticles for potential applications in nonvolatile memories. EMRS 2012 Spring Meeting, Carbon- or Nitrogen-Containing Nanostructured Thin Films: EMRS 2012 Spring Meeting, Strasbourg, France, 14-18. May 2012. 5.2.
  • Leitud 1 kirjet
TüüpPrioriteedi numberPrioriteedi kuupäevPrioriteedi klassifikaatorPealkiriAutoridFailAsutused
Patentne leiutisUK1223532.131.12.2012Rahvusvaheline (IPC)A Korrosioonile vastupidavate katete valmistamise meetodVäino Sammelselg; Maido Merisalu; Lauri AarikTartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond, Füüsika instituut