"Muu" projekt V201
V201 "Dielektrike õhukesed kiled odavate tehnoloogiatega (1.01.2003−31.12.2005)", Malle Krunks, Tallinna Tehnikaülikool, Tallinna Tehnikaülikool, Keemia ja materjalitehnoloogia teaduskond, Materjaliteaduse instituut, Pooljuhtmaterjalide tehnoloogia õppetool.
V201
Dielektrike õhukesed kiled odavate tehnoloogiatega
Low-cost processing of dielectric thin films
Low-cost processing of dielectric thin films
1.01.2003
31.12.2005
Teadus- ja arendusprojekt
Muu
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaatorFrascati Manual’i klassifikaatorProtsent
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT150 Materjalitehnoloogia2.3. Teised tehnika- ja inseneriteadused (keemiatehnika, lennundustehnika, mehaanika, metallurgia, materjaliteadus ning teised seotud erialad: puidutehnoloogia, geodeesia, tööstuskeemia, toiduainete tehnoloogia, süsteemianalüüs, metallurgia, mäendus, tekstiilitehnoloogia ja teised seotud teadused).100,0
AsutusRiikTüüp
Saksamaa Liitvabariigi Haridus ja Teadusministeerium
PerioodSumma
01.01.2003−31.12.20051,00 EEK (0,06 EUR)
0,06 EUR
muu - > välisleping

Dielektriliste materjalide ohukeste kilede moodustumise keemia ja valmistamistingimuste uurimine odavatel sool-geeli ja pihustuspürolüüsi meetoditel. Sadestusprekursorite moodustumine ja termoanalüütiline uurimine. Ohukeste kilede struktuursed, morfoloogilised ja elektrilised omadused.
To investigate the formation chemistry and preparation conditions of thin films of dielectric materials by cost-effective sol-gel and spray pyrolysis methods. Formation and thermal behaviour of the precursors for thin film deposition. Structural, morphological and electrical properties of of thin films.
KirjeldusProtsent
Alusuuring100,0