"Eesti Teadusfondi uurimistoetus" projekt ETF8666
ETF8666 "Aatomkontrollitud kaitsvad katted (1.01.2011−31.12.2012)", Väino Sammelselg, Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut.
ETF8666
Aatomkontrollitud kaitsvad katted
Atomically designed protective coatings
1.01.2011
31.12.2012
Teadus- ja arendusprojekt
Eesti Teadusfondi uurimistoetus
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaatorFrascati Manual’i klassifikaatorProtsent
4. Loodusteadused ja tehnika4.10. FüüsikaP250 Tahke aine: struktuur, termilised ja mehhaanilised omadused, kristallograafia, phase equilibria1.2. Füüsikateadused (astronoomia ja kosmoseteadus, füüsika ja teised seotud teadused)50,0
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT155 Pinded ja pinnatehnoloogia2.3. Teised tehnika- ja inseneriteadused (keemiatehnika, lennundustehnika, mehaanika, metallurgia, materjaliteadus ning teised seotud erialad: puidutehnoloogia, geodeesia, tööstuskeemia, toiduainete tehnoloogia, süsteemianalüüs, metallurgia, mäendus, tekstiilitehnoloogia ja teised seotud teadused).50,0
PerioodSumma
01.01.2011−31.12.201111 040,00 EUR
01.01.2012−31.12.201211 040,00 EUR
22 080,00 EUR

Projektis uuritakse madalatemperatuurilise aatomkihtsadestuse (ALD) meetodi väljatöötamise ja juurutamisega seotud probleeme, et oleks võimalik katta defektivaba, ultraõhukese, tiheda korrosioonitõkke kattega erinevaid metallobjekte, aga ka teisi kuumutustundlikke materjale, näit. orgaanilisi kilesid või polümeere. ALD katted valmistatakse õhukeste metalloksiid- või metallkiledena, aga samuti ka nendest materjalidest nanolaminaatidena, kogupaksusega mitte üle mõnekümne nanomeetri. Seetõttu uuritakse pinnareaktsioonidega seotud protsesse, kasutades mitmeid uusi prekursoreid ja/või uusi tuntud prekursorite kombinatsioone. Samuti uuritakse alusmaterjalide erinevate eeltöötluste ja katete järeltöötluste mõju katete kvaliteedile.
In the project studies on the problems connected with development and introduction of low-temperature atomic layer deposition (ALD) method for depositing of defect-free ultrathin anti-corrosion sealing coatings mainly onto surfaces of different metals but also onto other heat-sensitive substrates, e.g. organic films or polymers. The ALD coatings will be grown by in the form of thin metal oxide layers or metal layers, as well as nanolaminated coatings involving both types of sublayers but with resulting thickness not exceeding several tens of nanometers. For that reason, surface reaction related processes using several new precursors and/or new combinations of known precursors will be examined. The influence of different substrate pre-treatments as well as the post-deposition treatments on the quality of the coatings will be studied.