See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus
"Muu" projekt VA580
VA580 "Teadus- ja arendustöö leping The Swatch Group Research and Development Ltd ja TTÜ vahel (1.11.2012−28.02.2014)", Jakob Kübarsepp, Tallinna Tehnikaülikool, Tallinna Tehnikaülikool, Mehaanikateaduskond, Materjalitehnika instituut, Metallide tehnoloogia õppetool.
VA580
Teadus- ja arendustöö leping The Swatch Group Research and Development Ltd ja TTÜ vahel
Research and Development Agreement between The Swatch Group Research and Development Ltd and Tallinn University of Technology
Research and Development Agreement between The Swatch Group Research and Development Ltd and Tallinn University of Technology
1.11.2012
28.02.2014
Teadus- ja arendusprojekt
Muu
ValdkondAlamvaldkondCERCS erialaFrascati Manual’i erialaProtsent
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT150 Materjalitehnoloogia2.3. Teised tehnika- ja inseneriteadused (keemiatehnika, lennundustehnika, mehaanika, metallurgia, materjaliteadus ning teised seotud erialad: puidutehnoloogia, geodeesia, tööstuskeemia, toiduainete tehnoloogia, süsteemianalüüs, metallurgia, mäendus, tekstiilitehnoloogia ja teised seotud teadused).100,0
AsutusRiikTüüp
The Swatch Group Research and Development Ltd Division Asulab
PerioodSumma
01.11.2012−28.02.201490 000,00 EUR
90 000,00 EUR
välisleping

Keraamilis-metalsete komposiitmaterjalide (kermiste) väljatöötamine kella- ja juveelitööstusele, milliseid iseloomustab kõvaduse, sitkuse ja purunemissitkuse kombinatsioon, mis ületab musta ja valge ZrO2-baasil keraamika vastavad näitajad. Lisaks on materjalilt nõutav perfektne metalne pind peale poleerimist ning väga kõrge korrosioonikindlus.
Development of composite materials (cermets) for watch and jewellery applications with the aim to achieve hardness, toughness and tenacity upper than black and white zirconic-based ceramics, a perfect metallic polished aspect and a very high corrosion resistance.
TegevusProtsent
Alusuuring15,0
Rakendusuuring70,0
Katse- ja arendustöö15,0