"Eesti Teadusfondi uurimistoetus" projekt ETF6651
ETF6651 (ETF6651) "Uute tehnoloogiliste materjalide ja kilestruktuuride in-situ nanotasemel karakteriseerimine (1.01.2006−31.12.2009)", Väino Sammelselg, Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond.
ETF6651
Uute tehnoloogiliste materjalide ja kilestruktuuride in-situ nanotasemel karakteriseerimine
Nanometric in-situ characterisation of novel technological materials and thin film structures
1.01.2006
31.12.2009
Teadus- ja arendusprojekt
Eesti Teadusfondi uurimistoetus
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaatorFrascati Manual’i klassifikaatorProtsent
4. Loodusteadused ja tehnika4.10. Füüsika 1.2. Füüsikateadused (astronoomia ja kosmoseteadus, füüsika ja teised seotud teadused)34,0
4. Loodusteadused ja tehnika4.11. Keemia ja keemiatehnika 1.3. Keemiateadused (keemia ja muud seotud teadused)33,0
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadus 2.3. Teised tehnika- ja inseneriteadused (keemiatehnika, lennundustehnika, mehaanika, metallurgia, materjaliteadus ning teised seotud erialad: puidutehnoloogia, geodeesia, tööstuskeemia, toiduainete tehnoloogia, süsteemianalüüs, metallurgia, mäendus, tekstiilitehnoloogia ja teised seotud teadused).33,0
PerioodSumma
01.01.2006−31.12.2006298 800,00 EEK (19 096,80 EUR)
01.01.2007−31.12.2007298 800,00 EEK (19 096,80 EUR)
01.01.2008−31.12.2008298 800,00 EEK (19 096,80 EUR)
01.01.2009−31.12.2009286 848,00 EEK (18 332,93 EUR)
75 623,33 EUR

Projekt on suunatud mitmesuguste uudsete tehnoloogiliste kilestruktuuride loomisele ja selleks vajaminevate uute materjalide ja nendest valmistatud kilede uurimisele, arendades ja kasutades selleks õhukeste kilede lokaalseid karakteriseerimismeetodeid. Põhirõhk pannakse õhukeste/üliõhukeste kilede in-situ nanomeetriliste karakteriseerimismeetodite väljatöötamisele ja nende rakendamisele nii aatomkihtsadestamise meetodil kasvatatud anorgaaniliste metalloksiidkilede kui elektrokeemiliselt sadestatud orgaaniliste juhtivate polümeerkilede ja nende baasil loodud hübriidsete kilede in-situ uurimiseks, sealhulgas metalloksiid- ja polümeerkilede kokkusobivuse väljaselgitamiseks ja kasvu algstaadiumi kirjeldamiseks. Karakteriseerimismeetodite arendamisel peetakse silmas uuritavate kilestruktuuride konkreetseid kasutusvõimalusi nanoelektroonikas, sensoorikas jt. rakendustes. Projektis on kavandatud baseeruda dielektrilistele ja juhtivatele metalloksiidele ning juhtivale polüpürroolile, kuid vajadusel nähakse ette kasutatavate ainete ringi laiendamist.
The project focuses on the research of the various novel materials and thin films in the prospectively technologically interesting thin film structures, and on composing the materials and thin film structures. Local probe methods of thin film characterisation will be used. The main emphasis is set on the development of reliable robust in-situ methods for characterisation of thin and ultrathin films and application of these methods for investigation of initial growth stages of the metal oxide films produced by the atomic layer deposition method, as well as of the electrochemically deposited polymer films, and of the hybrid films produced by combining the former two deposition methods. The feasibility of utilising the produced thin film structures in nanoelectronic devices, specific sensors, coating films and other applications will be assessed. The project is based on insulating and conducting metal oxide films and conductive polypyrrole films while remaining open to the inclusion of components of other material classes if necessary.