See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus
"Muu" projekt F11022
F11022 "PECVD tehnoloogia spetsiifiliste lisanditega teemantpinnete sadestamiseks (1.03.2011−31.05.2011)", Vitali Podgurski, Tallinna Tehnikaülikool, Tallinna Tehnikaülikool, Mehaanikateaduskond, Materjalitehnika instituut, Materjaliõpetuse õppetool.
F11022
PECVD tehnoloogia spetsiifiliste lisanditega teemantpinnete sadestamiseks
Deposition of doped by different impurities diamond films by means of PECVD technology
PECVD tehnoloogia spetsiifiliste lisanditega teemantpinnete sadestamiseks
1.03.2011
31.05.2011
Teadus- ja arendusprojekt
Muu
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaatorFrascati Manual’i klassifikaatorProtsent
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT150 Materjalitehnoloogia2.3. Teised tehnika- ja inseneriteadused (keemiatehnika, lennundustehnika, mehaanika, metallurgia, materjaliteadus ning teised seotud erialad: puidutehnoloogia, geodeesia, tööstuskeemia, toiduainete tehnoloogia, süsteemianalüüs, metallurgia, mäendus, tekstiilitehnoloogia ja teised seotud teadused).100,0
AsutusRiikTüüp
EAS - ETTEVÕTLUSE ARENDAMISE SIHTASUTUS
PerioodSumma
01.03.2011−31.05.201111 110,00 EUR
11 110,00 EUR
EAS toetus

Eeluuringu eesmärgiks on viia läbi valdkonna turu-uuring ja teostada partnerotsingud, uurida teemantpinde sadestamise protsessi tehnoloogilisi sõlmpunkte ning tõestada, et meeskonna käsutuses on vajalik tehnika ja oskused teemantpinnete sadestamiseks ja pinde omaduste uurimiseks. Teostatakse ka patendiuuring.
The preliminary project objectives were investigation of the market of diamond films, negotiation with potential partners, investigation of the technological processes of the preparation of diamond films, setting of the detailed plan for the project participants and scheduling the deposition and investigation of diamond films. The investigation of the available patents was carried out as well.
KirjeldusProtsent
Rakendusuuring100,0