Refractive index gradients in TiO2 thin films grown by atomic layer deposition

Kasikov, A.; Aarik, J.; Mandar, H.; Moppel, M.; Pars, M.; Uustare, T. (2006). Refractive index gradients in TiO2 thin films grown by atomic layer deposition. Journal of Physics D: Applied Physics, 39 (1), 54−60.
ajakirjaartikkel
Kasikov, A.; Aarik, J.; Mandar, H.; Moppel, M.; Pars, M.; Uustare, T.
  • Inglise
Journal of Physics D: Applied Physics
IOP Publishing Ltd
0022-3727
39
1
2006
5460
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile