Growth kinetics and structure formation of ZrO2 thin films in chloride-based atomic layer deposition process

Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.; Sammelselg, V. (2002). Growth kinetics and structure formation of ZrO2 thin films in chloride-based atomic layer deposition process. Thin Solid Films, 408, 97−103.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
408
2002
97103
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile