See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

The effect of precursors to the structure and conductivity of atomic layer deposited TiO2 films

Jõgi, I.; Aarik, J.; Laan, M.; Jun, L.; Kukli, K.; Käämbre, H.; Sajavaara, T.; Uustare, T. (2005). The effect of precursors to the structure and conductivity of atomic layer deposited TiO2 films. Electrochemical Society Proceedings, 2005-09. Electrochemical Soc Inc, 575−582.
publitseeritud konverentsiettekanne
Jõgi, I.; Aarik, J.; Laan, M.; Jun, L.; Kukli, K.; Käämbre, H.; Sajavaara, T.; Uustare, T.
  • Inglise
Electrochemical Society Proceedings
Electrochemical Soc Inc
1566774276
2005-09
2005
575582
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Thomson Reuters Book Citation Index, Thomson Reuters Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)

Viited terviktekstile