Influence of thickness and growth temperature on the properties of zirconium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon

Kukli, K.; Ritala, M.; Uustare, T.; Aarik, J.; Forsgren, K.; Sajavaara, T.; Leskela, M.; Harsta, A. (2002). Influence of thickness and growth temperature on the properties of zirconium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon. Thin Solid Films, 410, 53−60.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Ritala, M.; Uustare, T.; Aarik, J.; Forsgren, K.; Sajavaara, T.; Leskela, M.; Harsta, A.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
410
2002
5360
8
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile