Conformity and structure of titanium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon substrates

Jõgi, I.; Pärs, M.; Aarik, J.; Aidla, A.; Laan, M.; Sundqvist, J.; Oberbeck, L.; Heitmann, J.; Kukli, K. (2008). Conformity and structure of titanium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon substrates. Thin Solid Films, 516 (15), 4855−4862.10.1016/j.tsf.2007.09.008.
ajakirjaartikkel
Jõgi, I.; Pärs, M.; Aarik, J.; Aidla, A.; Laan, M.; Sundqvist, J.; Oberbeck, L.; Heitmann, J.; Kukli, K.
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
516
15
2008
48554862
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2007.09.008