See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of ZrO2-based thin films

Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Mikkor, Mats; Jõgiaas, Taivo; Ritslaid, Peeter; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile; Kasikov, Aarne; Link, Joosep; Stern, Raivo; Dueñas, Salvador; Castán, Helena (2020). Atomic layer deposition of ZrO2-based thin films. FMTDK Teaduskonverents, Tallinn, 2020. TTÜ, 36−36.
publitseeritud konverentsiettekanne
Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Mikkor, Mats; Jõgiaas, Taivo; Ritslaid, Peeter; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile; Kasikov, Aarne; Link, Joosep; Stern, Raivo; Dueñas, Salvador; Castán, Helena
  • Inglise
FMTDK Teaduskonverents, Tallinn, 2020
2020
3636
Ilmunud
5.2. Konverentsiteesid, mis ei kuulu valdkonda 5.1

Seotud asutused

The University of Valladolid, Department of Electronics