Optical characterization of HfO2 thin films grown by atomic layer deposition

Aarik, J.; Mandar, H.; Kirm, M.; Pung, L. (2004). Optical characterization of HfO2 thin films grown by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 466, 41−47.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Mandar, H.; Kirm, M.; Pung, L.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
466
2004
4147
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile