Atomic layer deposition of Ru films from bis(2,5-dimethylpyrrolyl)ruthenium and oxygen

Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan; Aidla, Aleks; Jõgi, Indrek; Arroval, Tõnis; Lu, Jun; Sajavaara, Timo; Laitinen, Mikko; Kiisler, Alma-Asta; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku; Peck, John; Natwora, Jim; Geary, Joan; Spohn, Ronald; Meiere, Scott; Thompson, David M. (2012). Atomic layer deposition of Ru films from bis(2,5-dimethylpyrrolyl)ruthenium and oxygen. Thin Solid Films, 520 (7), 2756−2763.10.1016/j.tsf.2011.11.088.
ajakirjaartikkel
Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan; Aidla, Aleks; Jõgi, Indrek; Arroval, Tõnis; Lu, Jun; Sajavaara, Timo; Laitinen, Mikko; Kiisler, Alma-Asta; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku; Peck, John; Natwora, Jim; Geary, Joan; Spohn, Ronald; Meiere, Scott; Thompson, David M.
  • Inglise
Thin Solid Films
520
7
2012
27562763
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.11.088