Atomic layer deposition grown metal-insulator-metal capacitors with RuO2 electrodes and Al-doped rutile dielectric layer

Hudec, B.; Hus'ekova, K.; Dobroc'ka, E.; Aarik, J.; Rammula, R.; Kasikov, A.; Tarre, A.; Vincze, A.; Fröhlich, K. (2011). Atomic layer deposition grown metal-insulator-metal capacitors with RuO2 electrodes and Al-doped rutile dielectric layer. Journal of Vacuum Science and Technology B, 29 (1), 01AC09-1−01AC09-7.
ajakirjaartikkel
Hudec, B.; Hus'ekova, K.; Dobroc'ka, E.; Aarik, J.; Rammula, R.; Kasikov, A.; Tarre, A.; Vincze, A.; Fröhlich, K.
  • Inglise
Aatomkihtsadestuse teel kasvatatud metall-isolaator-metall kondensaatorid Ruo2 elektroodide ja Al-legeeritud rutiilist dielektrilise kihiga
Atomic layer deposition grown metal-insulator-metal capacitors with RuO2 electrodes and Al-doped rutile dielectric layer
Journal of Vacuum Science and Technology B
29
1
2011
01AC09-101AC09-7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile