See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Resolution enhancement for lensless mask metrology with RESCAN

Mochi, I.; Locans, U.; Dejkameh, A.; Nebling, R.; Kazazis, D.; Tseng, L.T.; Ekinci, Y. (2019). Resolution enhancement for lensless mask metrology with RESCAN. Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 11147. SPIE. DOI: 10.1117/12.2537068.
publitseeritud konverentsiettekanne
Mochi, I.; Locans, U.; Dejkameh, A.; Nebling, R.; Kazazis, D.; Tseng, L.T.; Ekinci, Y.
  • Inglise
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
0277-786X
9781510629974
11147
2019
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Web of Science Book Citation Index, Web of Science Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)
Jah
roheline

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1117/12.2537068

Seotud asutused

Paul Scherrer Institut

Lisainfo

Conference Paper
Coherent diffraction imaging | Defects | EUV mask review | Inspection | Lensless imaging | Ptychography
https://www.dora.lib4ri.ch/psi/islandora/object/psi%3A25801/datastream/PDF/Mochi-2019-Resolution_enhancement_for_lensless_mask-%28published_version%29.pdf