Atomic layer deposition of rutile and TiO2-II from TiCl4 and O3 on sapphire: Influence of substrate orientation on thin film structure

Möldre, Kristel; Aarik, Lauri; Mändar, Hugo; Niilisk, Ahti; Rammula, Raul; Tarre, Aivar; Aarik, Jaan. (2015). Atomic layer deposition of rutile and TiO2-II from TiCl4 and O3 on sapphire: Influence of substrate orientation on thin film structure. Journal of Crystal Growth, 428, 86−92.10.1016/j.jcrysgro.2015.07.029.
ajakirjaartikkel
Möldre, Kristel; Aarik, Lauri; Mändar, Hugo; Niilisk, Ahti; Rammula, Raul; Tarre, Aivar; Aarik, Jaan.
  • Inglise
Rutiili ja TiO2-II aatomkihtsadestamine safiirile TiCl4-st ja O3-st: Kasvualuse mõju õhukese kile struktuurile
Atomic layer deposition of rutile and TiO2-II from TiCl4 and O3 on sapphire: Influence of substrate orientation on thin film structure
Journal of Crystal Growth
0022-0248
428
2015
8692
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2015.07.029