See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Selection of post-growth thermal treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films

Dueñas, S.; Castán, H.; García, H.; Bailón, L.; Kukli, K.; Lu, J.; Ritala, M.; Leskelä, M. (2008). Selection of post-growth thermal treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films. Journal of Non-Crystalline Solids, 354, 404−408.
ajakirjaartikkel
Dueñas, S.; Castán, H.; García, H.; Bailón, L.; Kukli, K.; Lu, J.; Ritala, M.; Leskelä, M.
  • Inglise
Journal of Non-Crystalline Solids
354
2008
404408
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile