Atomic layer deposition of aluminum oxide films on graphene

Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Kasikov, Arne; Kozlova, Jekaterina; Kahro, Tauno; Matisen, Leonard; Niilisk, Ahti; Alles, Harry; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of aluminum oxide films on graphene. IOP Conference Series: Materials Science and Engineering, 49, 012014.10.1088/1757-899X/49/1/012014.
ajakirjaartikkel
Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Kasikov, Arne; Kozlova, Jekaterina; Kahro, Tauno; Matisen, Leonard; Niilisk, Ahti; Alles, Harry; Aarik, Jaan
  • Inglise
Alumiiniumoksiidi kilede aatomkihtsadestamine grafeenile
IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
1757-899X
49
2013
012014
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Thomson Reuters Book Citation Index, Thomson Reuters Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1088/1757-899X/49/1/012014

Seotud asutused