Real-time monitoring in atomic layer deposition of TiO2 from TiI4 and H2O-H2O2

Kukli, K.; Aidla, A.; Aarik, J.; Schuisky, M.; Harsta, A.; Ritala, M.; Leskela, M. (2000). Real-time monitoring in atomic layer deposition of TiO2 from TiI4 and H2O-H2O2. Langmuir, 16 (21), 8122−8128.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aidla, A.; Aarik, J.; Schuisky, M.; Harsta, A.; Ritala, M.; Leskela, M.
  • Inglise
Langmuir
American Chemical Society
0743-7463
16
21
2000
81228128
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science