Reactivities of tacl5 and h2o as precursors for atomic layer deposition

Siimon, H.; Aarik, J. (1995). Reactivities of tacl5 and h2o as precursors for atomic layer deposition. Journal de Physique IV, 5, 277−282.
ajakirjaartikkel
Siimon, H.; Aarik, J.
  • Inglise
Journal de Physique IV
Editions Physique
1155-4339
5
1995
277282
6
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science