See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Experimental studies of thorium ion implantation from pulse laser plasma into thin silicon oxide layers

Borisyuk, P.V.; Chubunova, E.V.; Lebedinskii, Yu.Yu.; Tkalya, E.V.; Vasilyev, O.S.; Yakovlev, V.P.; Strugovshchikov, E.; Mamedov, D.; Pishtshev, A.; Karazhanov S. Zh. (2018). Experimental studies of thorium ion implantation from pulse laser plasma into thin silicon oxide layers. Laser Physics Letters, 15 (5), 056101.10.1088/1612-202X/aaacf8.
ajakirjaartikkel
Borisyuk, P.V.; Chubunova, E.V.; Lebedinskii, Yu.Yu.; Tkalya, E.V.; Vasilyev, O.S.; Yakovlev, V.P.; Strugovshchikov, E.; Mamedov, D.; Pishtshev, A.; Karazhanov S. Zh.
  • Inglise
Laser Physics Letters
1612-202X
15
5
2018
056101
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

doi.org/10.1088/1612-202X/aaacf8