See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

A low valent metalorganic precursor for the growth of tungsten nitride thin films by atomic layer deposition

Dezelah, C.L.; El-Kadri, O.M.; Kukli, K.; Arstila, K.; Baird, R.J.; Lu, J.; Niinistö, L.; Winter, C.H. (2007). A low valent metalorganic precursor for the growth of tungsten nitride thin films by atomic layer deposition. Journal of Materials Chemistry, 17 (11), 1109−1116.
ajakirjaartikkel
Dezelah, C.L.; El-Kadri, O.M.; Kukli, K.; Arstila, K.; Baird, R.J.; Lu, J.; Niinistö, L.; Winter, C.H.
  • Inglise
Journal of Materials Chemistry
0959-9428
17
11
2007
11091116
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science