Atomic layer growth of epitaxial TiO2 thin films from TiCl4 and H2O on alpha-Al2O3 substrates

Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.; Schuisky, M.; Harsta, A. (2002). Atomic layer growth of epitaxial TiO2 thin films from TiCl4 and H2O on alpha-Al2O3 substrates. Journal of Crystal Growth, 242, 189−198.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.; Schuisky, M.; Harsta, A.
  • Inglise
Journal of Crystal Growth
Elsevier Science BV
0022-0248
242
2002
189198
10
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile