See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Hafnium tetraiodide and oxygen as precursors for atomic layer deposition of hafnium oxide thin films

Aarik, J.; Sundqvist, J.; Aidla, A.; Lu, J.; Sajavaara, T.; Kukli, K.; Harsta, A. (2002). Hafnium tetraiodide and oxygen as precursors for atomic layer deposition of hafnium oxide thin films. Thin Solid Films, 418 (2), 69−72.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Sundqvist, J.; Aidla, A.; Lu, J.; Sajavaara, T.; Kukli, K.; Harsta, A.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
418
2
2002
6972
4
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile