Hafnium tetraiodide and oxygen as precursors for atomic layer deposition of hafnium oxide thin films

Aarik, J.; Sundqvist, J.; Aidla, A.; Lu, J.; Sajavaara, T.; Kukli, K.; Harsta, A. (2002). Hafnium tetraiodide and oxygen as precursors for atomic layer deposition of hafnium oxide thin films. Thin Solid Films, 418 (2), 69−72.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Sundqvist, J.; Aidla, A.; Lu, J.; Sajavaara, T.; Kukli, K.; Harsta, A.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
418
2
2002
6972
4
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile