Atomic layer deposition of polycrystalline HfO2 films by the HfI4-O-2 precursor combination

Sundqvist, J.; Harsta, A.; Aarik, J.; Kukli, K.; Aidla, A. (2003). Atomic layer deposition of polycrystalline HfO2 films by the HfI4-O-2 precursor combination. Thin Solid Films, 427, 147−151.
ajakirjaartikkel
Sundqvist, J.; Harsta, A.; Aarik, J.; Kukli, K.; Aidla, A.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
427
2003
147151
5
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile