Impact of plasma treatment on electrical properties of TiO2/RuO2 based DRAM capacitor

Hudec, Boris; Hus'ekova, Kristina; Rosova, Alica; S'oltys, Jan; Rammula, Raul; Kasikov, Aarne; Uustare, Teet; Mic'us'ik, Matej; Omastova, Maria; Aarik, Jaan; Fröhlich, Karol (2013). Impact of plasma treatment on electrical properties of TiO<sub>2</sub>/RuO<sub>2</sub> based DRAM capacitor. Journal of Physics D: Applied Physics, 46 (38), 385304−8.10.1088/oo22-3727/38/385304.
ajakirjaartikkel
Hudec, Boris; Hus'ekova, Kristina; Rosova, Alica; S'oltys, Jan; Rammula, Raul; Kasikov, Aarne; Uustare, Teet; Mic'us'ik, Matej; Omastova, Maria; Aarik, Jaan; Fröhlich, Karol
  • Inglise
Plasmatöötluse mõju TiO2/RuO2 põhineva DRAM kondensaatori elektrilistele omadustele
Impact of plasma treatment on electrical properties of TiO<sub>2</sub>/RuO<sub>2</sub> based DRAM capacitor
Journal of Physics D: Applied Physics
1361-6463
46
38
2013
3853048
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1088/oo22-3727/38/385304