Influence of TiO2 incorporation in HfO2 and Al2O3 based capacitor dielectrics

Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M., Sundqvist, J.; Oberbeck, L.; Heitmann, J.; Schröder, U.; Aarik, J.; Aidla, A. (2007). Influence of TiO2 incorporation in HfO2 and Al2O3 based capacitor dielectrics. Thin Solid Films, 515 (16), 6447−6451.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M., Sundqvist, J.; Oberbeck, L.; Heitmann, J.; Schröder, U.; Aarik, J.; Aidla, A.
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
515
16
2007
64476451
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile