See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Effects of the illumination NA on EUV mask inspection with coherent diffraction imaging

Nebling, R.; Kim, H.S.; Locans, U.; Dejkameh, A.; Ekinci, Y.; Mochi, I. (2020). Effects of the illumination NA on EUV mask inspection with coherent diffraction imaging. Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 11517. SPIE. DOI: 10.1117/12.2573181.
publitseeritud konverentsiettekanne
Nebling, R.; Kim, H.S.; Locans, U.; Dejkameh, A.; Ekinci, Y.; Mochi, I.
  • Inglise
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
0277-786X
9781510638426
11517
2020
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Web of Science Book Citation Index, Web of Science Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)
Jah
roheline

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1117/12.2573181

Seotud asutused

Paul Scherrer Institut

Lisainfo

Conference Paper
Actinic patterned mask inspection | Coherent diffraction imaging | EUV lithography | Illumination NA | Ptychography
https://www.dora.lib4ri.ch/psi/islandora/object/psi%3A34951/datastream/PDF/Nebling-2020-Effects_of_the_illumination_NA-%28published_version%29.pdf