Growth of high-dielectric-constant TiO2 films in capacitors with RuO2 electrodes

Fröhlich, K.; Ťapajna, M.; Rosová, A.; Dobročka, E.; Hušeková, K.; Aarik, J.; Aidla, A. (2008). Growth of high-dielectric-constant TiO2 films in capacitors with RuO2 electrodes. Electrochemical and Solid-State Letters, 11 (6), G19−G21.10.1149/1.2898184.
ajakirjaartikkel
Fröhlich, K.; Ťapajna, M.; Rosová, A.; Dobročka, E.; Hušeková, K.; Aarik, J.; Aidla, A.
  • Inglise
Electrochemical and Solid-State Letters
1099-0062
11
6
2008
G19G21
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1149/1.2898184