See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Control of thin film structure by reactant pressure in atomic layer deposition of TiO2

Aarik, J.; Aidla, A.; Sammelselg, V.; Siimon, H.; Uustare, T. (1996). Control of thin film structure by reactant pressure in atomic layer deposition of TiO2. Journal of Crystal Growth, 169 (3), 496−502.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Sammelselg, V.; Siimon, H.; Uustare, T.
  • Inglise
Journal of Crystal Growth
Elsevier Science BV
0022-0248
169
3
1996
496502
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science