Control of thin film structure by reactant pressure in atomic layer deposition of TiO2

Aarik, J.; Aidla, A.; Sammelselg, V.; Siimon, H.; Uustare, T. (1996). Control of thin film structure by reactant pressure in atomic layer deposition of TiO2. Journal of Crystal Growth, 169 (3), 496−502.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Sammelselg, V.; Siimon, H.; Uustare, T.
  • Inglise
Journal of Crystal Growth
Elsevier Science BV
0022-0248
169
3
1996
496502
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science