Influence of structure development on atomic layer deposition of TiO2 thin films

Aarik, J.; Karlis, J.; Mandar, H.; Uustare, T.; Sammelselg, V. (2001). Influence of structure development on atomic layer deposition of TiO2 thin films. Applied Surface Science, 181, 339−348.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Karlis, J.; Mandar, H.; Uustare, T.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
181
2001
339348
10
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science