Atomic layer deposition of ruthenium films from (ethylcyclopentadienyl)(pyrrolyl)ruthenium and oxygen

Kukli, K.; Kemell, M.; Puukilainen, E.; Aarik, J.; Aidla, A.; Sajavaara, T.; Laitinen, M.; Tallarida, M.; Sundqvist, J.; Ritala, M.; Leskelä, M. (2011). Atomic layer deposition of ruthenium films from (ethylcyclopentadienyl)(pyrrolyl)ruthenium and oxygen. Journal of the Electrochemical Society, 158 (3), D158−D165.10.1149/1.3533387.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Kemell, M.; Puukilainen, E.; Aarik, J.; Aidla, A.; Sajavaara, T.; Laitinen, M.; Tallarida, M.; Sundqvist, J.; Ritala, M.; Leskelä, M.
  • Inglise
Journal of the Electrochemical Society
158
3
2011
D158D165
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1149/1.3533387