Modeling of precursor flow and deposition in atomic layer deposition reactor

Siimon, H.; Aarik, J. (1995). Modeling of precursor flow and deposition in atomic layer deposition reactor. Journal de Physique IV, 5, 245−252.
ajakirjaartikkel
Siimon, H.; Aarik, J.
  • Inglise
Journal de Physique IV
Editions Physique
1155-4339
5
1995
245252
8
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science