See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Advanced cyclopentadienyl precursors for atomic layer deposition of ZrO2 thin films

Niinistö, J.; Kukli, K.; Tamm, A.; Putkonen, M.; Dezelah, C. L.; Niinistö, L.; Lu, J.; Song, F.; Williams, P.; Heys, P. N.; Ritala, M.; Leskelä, M. (2008). Advanced cyclopentadienyl precursors for atomic layer deposition of ZrO2 thin films. Journal of Materials Chemistry, 18 (28), 3385−3390.
ajakirjaartikkel
Niinistö, J.; Kukli, K.; Tamm, A.; Putkonen, M.; Dezelah, C. L.; Niinistö, L.; Lu, J.; Song, F.; Williams, P.; Heys, P. N.; Ritala, M.; Leskelä, M.
  • Inglise
Journal of Materials Chemistry
18
28
2008
33853390
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile