Epitaxial growth of TiO2 films in a hydroxyl-free atomic layer deposition process

Schuisky, M.; Kukli, K.; Aarik, J.; Lu, J.; Harsta, A. (2002). Epitaxial growth of TiO2 films in a hydroxyl-free atomic layer deposition process. Journal of Crystal Growth, 235, 293−299.
ajakirjaartikkel
Schuisky, M.; Kukli, K.; Aarik, J.; Lu, J.; Harsta, A.
  • Inglise
Journal of Crystal Growth
Elsevier Science BV
0022-0248
235
2002
293299
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile