Atomic layer deposition and characterization of HfO2 films on noble metal film substrates

Kukli, K.; Aaltonen, T.; Aarik, J.; Lu, J.; Ritala, M.; Ferrari, S.; Harsta, A.; Leskela, M. (2005). Atomic layer deposition and characterization of HfO2 films on noble metal film substrates. Journal of the Electrochemical Society, 152 (7), F75−F82.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aaltonen, T.; Aarik, J.; Lu, J.; Ritala, M.; Ferrari, S.; Harsta, A.; Leskela, M.
  • Inglise
Journal of the Electrochemical Society
Electrochemical Soc Inc
0013-4651
152
7
2005
F75F82
8
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile