See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Bismuth iron oxide thin films using atomic layer deposition of alternating bismuth oxide and iron oxide layers

Puttaswamy, Manjunath; Vehkamäki, Marko; Kukli, Kaupo; Dimri, Mukesh Chandra; Kemell, Marianna; Hatanpää, Timo; Heikkilä, Mikko J.; Mizohata, Kenichiro; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku (2016). Bismuth iron oxide thin films using atomic layer deposition of alternating bismuth oxide and iron oxide layers. Thin Solid Films, 611, 78−87.10.1016/j.tsf.2016.05.006.
ajakirjaartikkel
Puttaswamy, Manjunath; Vehkamäki, Marko; Kukli, Kaupo; Dimri, Mukesh Chandra; Kemell, Marianna; Hatanpää, Timo; Heikkilä, Mikko J.; Mizohata, Kenichiro; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
  • Inglise
Thin Solid Films
611
2016
7887
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2016.05.006