See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Use of atomic-force microscopy for characterization of silicon, implated with heavy ions at high doses

Angelov, Ch.; Groudev, P.; Mikli, V. (2000). Use of atomic-force microscopy for characterization of silicon, implated with heavy ions at high doses. Proc.of 11th Conf. ”Materials for Information tech.in the new Millenium”, ISCMP, 2000, Varna: 11th Conf. ”Materials for Information tech.in the new Millenium”, ISCMP, 2000, Varna. 460−464.
publitseeritud konverentsiettekanne
Angelov, Ch.; Groudev, P.; Mikli, V.
Proc.of 11th Conf. ”Materials for Information tech.in the new Millenium”, ISCMP, 2000, Varna
11th Conf. ”Materials for Information tech.in the new Millenium”, ISCMP, 2000, Varna
2000
460464
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Thomson Reuters Book Citation Index, Thomson Reuters Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)

Viited terviktekstile

Lisainfo