Epitaxial growth of high-k TiO2 rutile films on RuO2 electrodes

Fröhlich, K.; Aarik, J.; Ťapajna, M.; Rosová, A.; Aidla, A.; Dobročka, E.; Hušková, K. (2009). Epitaxial growth of high-k TiO2 rutile films on RuO2 electrodes. Journal of Vacuum Science and Technology B, 27 (1), 266−270.10.1116/1.3021030.
ajakirjaartikkel
Fröhlich, K.; Aarik, J.; Ťapajna, M.; Rosová, A.; Aidla, A.; Dobročka, E.; Hušková, K.
  • Inglise
Journal of Vacuum Science and Technology B
1071-1023
27
1
2009
266270
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1116/1.3021030